高度デバイス領域はARIM事業における７つの重要技術領域の一つです。この領域ではハブ機関（東北大学）と三つのスポーク機関（筑波大学、豊田工業大学、香川大学）が連携して、様々なデバイス創生のための材料開発とプロセッシングを支援しています。

東北大学では西澤潤一記念研究センター（マイクロシステム融合研究開発センター）試作コインランドリのクリーンルーム（クリーンスペース 3000m²以上）に存在する様々な微細加工装置を開放し、モノづくりのお手伝いをするとともに、金属材料研究所や先端電子顕微鏡センターあるいは理学研究科の解析機器を駆使してマテリアル創生を先導しています。

筑波大学では微細加工に関する高度な技術支援に加え、パワーエレクトロニクスを中心とするデバイス分野における研究開発を推進しています。また、光電子分光などの最新解析機器をラインナップに加え、本事業のユーザー支援を行っています。筑波大学のARIM事業HPはこちら。

豊田工業大学では中部地区を中心に、ナノテク・材料関連の加工技術を提供するとともに、シリコンだけでなく磁性材料など多種多様な機能材料による微細構造素子の作成や素材形成技術で産業界のニーズに応えています。豊田工業大学のARIM事業HPはこちら。

香川大学は四国で唯一のARIM事業参画機関であると同時に、N&MEMS技術やバイオ技術を駆使して新たなイノベーションにつながる研究開発を行っています。たとえば、特徴あるデュアルビームスパッタ装置はフォトニクス分野への応用が期待されています。